Calibration pour l’EUV au NIST

, Partager

Alors que l’Extrême UV (EUV) est aujourd’hui activement développé par des constructeurs comme Intel pour prendre le relais des techniques de lithographie optique à 193 nm, de nombreux défis technologiques demeurent, retardant sa mise en place. Le rayonnement EUV fait partie du domaine des X-mous et les structures miroirs obligatoires en EUV, à la différence de la lithographie optique utilisant des optiques en transmission, sont composées d’un empilement multicouches Mo/Si dont le contrôle de l’épaisseur doit être extrêmement précis pour garantir une réflectivité maximale. Ce rayonnement étant intense, il endommage facilement les couches qui perdent en réflectivité et annihile l’efficacité de tout l’appareillage.
Dans le but d’accélérer le développement des techniques de métrologie et de calibration pour l’EUV, le NIST a développé un rayon laser sur son Synchrotron Ultraviolet Radiation Facility (SURF) pour tester la durabilité des miroirs dans des conditions de fonctionnement EUV. Les meilleures durées de vie ont été mesurées avec des miroirs recouverts d’une couche d’encapsulement en Ruthénium. Cependant cette durée de vie reste énormément inférieure à celle requise par l’ITRS pour être introduit en production. Contre toute attente, les chercheurs ont par ailleurs découvert qu’une forte teneur en vapeur d’eau diminuait les dommages infligés aux miroirs. La prochaine étape de cette recherche sera de créer un nouveau laser couvrant une plus large gamme spectrale (de 11 à 50 nm) avec une intensité d’émission 100 fois supérieure.

Source :

http://physics.nist.gov/euvl ; Cf. Lettre Sciences Physiques N°21 "La photolithographie"
S. Grantham, S.B. Hill, C. Tarrio, R.E. Vest and T.B. Lucatorto.2005. EUV component and system characterization at NIST for the support of extreme-ultraviolet lithography. Proceedings of SPIE 5751, 1185-9

Rédacteur :

Michael Nique, San Francisco

Voir en ligne : http://www.bulletins-electroniques….