Fabrication de nanostructures en grandes quantités par nanopantographie

, Partager

Une équipe de scientifiques de l’université de Houston (TX) a développé une technique permettant de graver en grande quantité des structures de dimensions nanométriques et de formes simples à l’aide de faisceaux d’ions focalisés.

Le système est constitué d’un réseau de microlentilles formées par des trous circulaires réalisés dans une couche de métal/diélectrique déposée sur un substrat de silicium. Lorsque qu’une tension positive est appliquée à ces lentilles et qu’elles sont exposées à un faisceau d’ions collimaté, on génère une multitude de faisceaux d’ions focalisés d’un diamètre minimal de 1 nanomètre soit une taille 100 fois plus faible que le diamètre d’une lentille. En inclinant le substrat avec différents angles, le plan focal se déplace latéralement sur le substrat et les chercheurs peuvent générer ainsi des figures géométriques élémentaires.

Ils espèrent à l’avenir rendre indépendants les lentilles et le substrat afin de rendre le système viable pour la fabrication de nanostructures plus complexes sur de plus larges surfaces.

Source :


- http://www.uh.edu/admin/media/nr/2007/09sept/090407nanopantography.html
- Brevet soumis "Method and Apparatus for Nanopantography" - V. Donnelly, P. Ruchhoeft, L. Xu ; S. C. Vemula ; et M. Jain.
- Ancienne publication parue dans Nano Letters : "Nanopantography : A new method for massively parallel nanopatterning over large areas" - Lin Xu et al. - Nano Letters Vol 5 No 12, 2563 (2005) : http://www.chee.uh.edu/faculty/economou/publication_pdfs/DJE_reprints/Nanopantography.pdf

Rédacteur :

Romaric Fayol : deputy-phys.mst@consulfrance-houston.org

Voir en ligne : http://www.bulletins-electroniques….